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MBE-300 分子束外延系统

MBE 300 主要采用氩弧焊加工的圆柱形316不锈钢腔体,腔体顶部法兰尺寸为CF250,最多可安装9个束源炉,能根据用户需求安装多坩埚的磁偏转电子束,适用于小尺寸(匹配旗形样品托)样品生长。

产品特点
● 一套成熟、稳定、性价比高的系统● 模块化设计,炉源、泵组、其他部件灵活搭配,适合不同需求● 既能作为独立的系统,也可与其他超高真空系统互联



                                                                                                                                                                                               
产品参数
MBE 300模块描述配置参数
生长室
腔体
腔体材料SS316
腔体尺寸200mm I.D
烘烤温度Max.200℃
本底真空< 5×10-10 mbar
抽气系统450L/s分子泵+10m3/h机械泵
真空测量系统离子规+Pirani规
液氮冷屏选配
离子泵选配
样品架样品尺寸Flag-type样品托
衬底加热方式辐射加热
衬底加热器温度室温-1200K
电子束加热选配
直流加热
选配
液氮制冷模块选配
部件蒸发源配置4xDN40CF, 4xDN63CF, 1xDN100CF
独立的蒸发源挡板气动驱动
QCM标配
RHEED15KeV-30KeV
Ion Source选配
RGA选配

快速进样室
腔体腔体材料SS316
烘烤温度Max.200℃
本底真空<5×10-8 mbar
抽气系统80L/s分子泵+10m3/h机械泵
真空测量系统全量程规
部件样品停放台6或12工位
系统集成及控制GUIDE软件标配
烘烤系统标配
系统支架标配
真空照明系统选配
等离子清洗选配
CCD相机选配



标签: 超高真空MBE
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