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产品概述 Product Overview

MBE-600系统非常适合III-V,II-VI和其他化合物半导体材料应用,该系统可以对1、2和3英寸衬底进行外延,并且其垂直腔室设计以及各种先进组件可实现逐层精确的外延。
MBE-600的突出特点是系统的高可靠性、多功能性和紧凑性,这些功能使MBE-600系统特别适合研发应用及准批量生产。MBE-600的标准版本包括10个源端口,其中7个法兰尺寸为4.5英寸(DN63CF),3个法兰尺寸为2.75英寸(DN35CF)。MBE-600的定制版本也涵盖了特定的生产需求,例如超高真空解理镀膜系统。


MBE-600手动传样系统


MBE-600手动传样系统,可以进行3inch衬底传递。费勉仪器将传统的衬底转移方法转换为一个功能齐全的设备。该系统不仅可以提供水平线性运动进行衬底转移,而且可以在垂直方向上提供高达25 mm的移动空间以进行上下运动来取出或放置衬底。该系统无需使用二次运动工具,降低了成本并极大地简化了衬底传输技术。

MBE-600-Cluster全自动传样系统


MBE-600-Cluster全自动传样系统,可以轻松将衬底传至各个腔室,而不会破坏MBE腔室真空度。Cluster Tool是安装在UFO顶部或底部的机械臂组件,可360°连续旋转,目的是在整个MBE系统中转移衬底;搭配线性驱动装置,实现垂直方向0~50mm自由运动,目的是放置和抓取衬底。机械臂末端可搭配3inch衬底抓取头,最大负载可达1kg。机械臂通过高扭矩磁耦合驱动器驱动机械臂旋转至所需真空腔体端口,定位基片安装在机械臂前端上,以检测机械臂在系统模块内移动衬底的过程。


根据我们所有客户的要求,我们提供不同种类的普通蒸发源,带阀的裂化器源,气体源和电子束蒸发源。通过使用BFM,QCM,Rheed,RGA等,可以获得系统原位表征。费勉的MBE软件包括生长工艺程序编写、自动生长控制和不间断数据记录三大功能。可以执行生长工艺程序控制挡板运动,源炉温度,衬底温度,衬底旋转速度和方向。保证最大的操作可重复性和安全性。控制软件包括温度曲线,真空压力曲线,电源输出功率曲线,各系统间传样等工艺需求功能。


技术规格 Mechanical Specifications


配置 MBE-600
生长室
腔体尺寸 450mm I.D.
极限真空 <2×10-10mbar
液氮冷屏 标配
冷屏通液氮后极限真空
<5×10-11mbar
衬底加热器最高温度
1000℃
衬底加热器温度稳定性
±0.5℃
衬底最大尺寸
3inch
衬底旋转
60RPM
蒸发源配置
CF35×3/CF63×7
独立的蒸发源挡板
电机驱动
离子规
1×10-3~2×10-11mbar
烘烤温度
200℃
预处理 极限真空 <2×10-10mbar
预处理加热器最高温度
450℃
离子规 1×10-3~2×10-11mbar
进样室 极限真空 <1×10-8mbar
样品停放台 至少4+2
红外烘烤灯 选配
全量程规
1×103~5×10-9mbar
传样室 极限真空 <5×10-10mbar
传样时压力 <1×10-9mbar
手动/全自动 选配
离子规 1×10-3~2×10-11mbar
样品停放台 至少4+2
系统控制 触摸屏操作面板
加配
生长工艺程序编写
加配
自动生长控制
加配
不间断数据记录 加配
报警保护功能 加配
联锁功能 加配
选配 CCD 选配
手套箱 选配
磷回收系统
选配
衬底红外测温系统
选配
真空照明系统
选配
SMS 选配




MBE-600 配套蒸发源


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标签: MBE系统