高束流射频等离子体源 您当前的位置: 首页 > 产品中心 > 等离子技术 > 高效射频等离子体源 > 高束流射频等离子体源

产品概述 Product Overview

FERMI-RFPS-200是费勉仪器公司最新生产的一种高效射频等离子体源,通过线圈式结构,能在真空腔体内激发产生等离子体,激励气体种类包括但不限于H2、N2、O2、稀有气体等,具有更好的稳定性以及更精确的操控性,广泛应用于分子束外延系统(MBE)中氮化物生长、氮原子注入和掺杂、氧化物生长、氧原子的注入和掺杂、氢化物生长以及氢原子表面清洗等。


规格说明 Specification

● 高效稳定的氮化物、氧化物、氢化物生长

● 精确的操控性能,简单易用

● 可以根据需求更换引出端口

● 内有原子筛选孔,使离子体尽可能少的到达衬底

● 适用于MBE、真空解理镀膜、氢原子衬底清洗等系统


类型 FERMI-RFPS-200
真空兼容性 CF100标准法兰
气体负载
N2,H2 O2,H2
离子产生区材料
PBN 石英
冷却方式
水冷
进气装置
VCR1/4接头
真空工作距离
100-200mm
射频匹配器
13.56MHz/500瓦
水冷流速
>1 L/min
手动、自动射频匹配器
可选
等离子体光谱检测
可选


测试曲线图 Test Curve

原子氢衬底脱氧处理及外延测试:

MBE生长用射频离子源实际案例:真空解理镀膜系统






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