PS大面积等离子体源，适配多种气体，适合用于大面积基片的刻蚀、表面清理、表面活化、表面改性、辅助沉积等。
10-4– 10-1 mbar
1017 m-3
收到资料后，我们的销售人员/产品工程师将与您联系
部分产品可根据您的需求定制
您的资料将全程保密
*姓名/称呼
*联系电话
*电子邮箱
*公司名称
收到资料后，我们的销售人员/产品工程师将与您联系部分产品可根据您的需求定制您的资料将全程保密
EN
021-6525 3206
您当前位置：
全国服务热线
详询产品信息
