超高真空兼容的SH-Ta系列加热器采用特殊绕制的高纯钽丝辐射加热，可垂直安装至分子束外延系统中，非常适用于生长各种化合物半导体材料。样品台容许承载4、6、8inch衬底托盘，可根据MBE系统选用不同型号的SH-Ta系列加热器。加热区采用高纯钽、钼及PBN材料，可最大限度减少高温状态下材料放气及产生颗粒。衬底旋转采用独特的耐高温磁耦合旋转驱动结构，烘烤过程中无需拆除磁铁，可保证衬底在生长温度下连续旋转较长时间，无需进行维护。特殊设计的加热丝分布，可实现衬底表面均匀加热。
| ● 螺旋钽丝辐射加热 | ● 最高工作温度可达1000℃ | ● 衬底可连续旋转(0-60RPM) |
| ● 全片温度均匀性优于±3℃ | ● 适用于不同尺寸的衬底 |
| 加热器型号 | SH800-Ta | SH800P-Ta | SH1000-Ta | SH2000-Ta | |
| 气体负载 | MBE800 | MBE800P | SH1000 | SH2000 | |
| 加热盘尺寸(mm) | 170 | 206 | 284 | 462 | |
| 托盘尺寸(mm) | 126 | 185 | 270 | 400 | |
| 安装法兰 | CF250 | CF250 | CF350 | WS600 | |
| 加热丝数目 | 1 | 2 | |||
| 加热丝材质 | 螺旋钽丝 | ||||
| 加热方式 | 辐射加热 | ||||
| 热电偶 | C型 / W-Re 5%-26% (可选配K型) | ||||
| 常用旋转速度 | 0-40 RPM，最高转速60RPM | ||||
| 常用工作温度 | 800℃ | ||||
| 最高除气温度 | 1000℃ | ||||
| 温度稳定性 | ≤±0.2℃ | ||||
| 温度均匀性 | ≤±3℃ | ||||
| 烘烤温度 | 250℃ | ||||
| 订购编码 | 3205010037 | 3205010184 | 3205010149 | 3205010185 | |
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