RFPS射频等离子体源,专门为高通量活性中性产物设计。通过线圈式结构,能在真空腔体内激发产生等离子体,激励气体种类包括但不限于H2、N2、O2、稀有气体等,具有更好的稳定性以及更精确的操控性。可为MBE和钝化处理系统提供高通量原子氢、原子氧、原子氮。特殊的喷口片结构设计,可有效抑制高能粒子对衬底表面损伤,并且能够优化束流分布。
RFPS配套的全自动射频电源匹配器,可快速匹配。
● 高效稳定的氮化物、氧化物、氢化物生长 | ● 精确的操控性能,简单易用 | ● 内有原子筛选孔,使离子尽可能少的到达衬底。可以根据需求更换引出端口 |
蒸发源型号 | RFPS200-A | RFPS200-B | RFPS200-C | RFPS200-D | |
气体负载 | N2、H2 | O2、H2 | N2、H2 | O2、H2 | |
离子产生区材料 | PBN | 石英 | PBN | 石英 | |
安装法兰尺寸 | CF63 | CF100 | |||
总长度 (mm) | 824±2 | 824±2 | |||
真空内长度 (mm) | 400±2 | 400±2 | |||
真空内外径 (mm) | 54 | 71 | |||
冷却方式口 | ≥0.5;推荐大于2 | ||||
进气接口 | 1/4VCR | ||||
射频匹配器 | 13.56MHz / 500W;1000W可选 | ||||
等离子体光谱检测 | 选配 |
RFPS射频等离子体源与Riber或Veeco MBE系统兼容信息请联系费勉仪器
收到资料后,我们的销售人员/产品工程师将与您联系
部分产品可根据您的需求定制
您的资料将全程保密